Deposição por CVD (Chemical Vapour Deposition) de filmes de sílica amorfa (SiO2) protetores contra carburização de aços inoxidável [sic]

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Data
2003
Autor
Orientador
Tipo
URI
http://hdl.handle.net/10183/39930
Evento
Salão de iniciação Científica (15. : 2003 nov. 24-28 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
Assunto
Grande Área
Engenharias
Contido em
Salão de Iniciação Científica (15. : 2003 : Porto Alegre, RS). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 2003.
Sessão
Engenharia Metalúrgica e de Materiais V
Coleções
 
   

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