Fabricação de capacitores metal-óxido-semicondutor em silíco e germânio
dc.contributor.advisor | Krug, Cristiano | pt_BR |
dc.contributor.author | Schafer, Laura | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2013-01-25T10:30:06Z | pt_BR |
dc.date.issued | 2012 | pt_BR |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10183/64355 | pt_BR |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.language.iso | por | pt_BR |
dc.rights | Open Access | en |
dc.title | Fabricação de capacitores metal-óxido-semicondutor em silíco e germânio | pt_BR |
dc.type | Resumo publicado em evento | pt_BR |
dc.contributor.event | Salão de Iniciação Científica (24. : 2012 out. 1-5 : UFRGS, Porto Alegre, RS). | pt_BR |
dc.subject.session | Informática - microeletrônica | pt_BR |
dc.subject.theme | Microeletrônica | pt_BR |
dc.subject.cnpq | Ciências exatas e da terra | pt_BR |
dc.type.presentation | Apresentação oral | pt_BR |
dc.description.number | 1 | pt_BR |
dc.identifier.sic | 25329 | pt_BR |
dc.subject.macro | Informática | pt_BR |
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