Processo de modificação superficial de materiais utilizando radiação monocromática síncrotron e ultravioleta na presença de gases reativos
dc.contributor.author | Weibel, Daniel Eduardo | pt_BR |
dc.date.accessioned | 2013-01-14T16:02:20Z | pt_BR |
dc.date.issued | 2009 | pt_BR |
dc.date.submitted | 2009-07-17 | pt_BR |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10183/62416 | pt_BR |
dc.description.sponsorship | Universidade Federal do Rio Grande do Sul | pt_BR |
dc.format.mimetype | application/pdf | pt_BR |
dc.language.iso | por | pt_BR |
dc.rights | Open Access | en |
dc.subject | Polimeros : Filmes finos | pt_BR |
dc.subject | Radiação síncrotron | pt_BR |
dc.title | Processo de modificação superficial de materiais utilizando radiação monocromática síncrotron e ultravioleta na presença de gases reativos | pt_BR |
dc.type | Patente | pt_BR |
dc.identifier.nrb | 000757525 | pt_BR |
dc.description.department | Química | pt_BR |
dc.identifier.patentno | PI0902547-2 | pt_BR |
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Propriedade Intelectual (535)Patentes (535)